一种单孔中空硼亲和印迹聚合物的制备方法和应用
行业领域：其他
需求类别：技术需求
法律状态：已下证
发布时间：2024-01-12
需求类别：技术需求
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详情介绍
本发明涉及一种单孔中空硼亲和印迹聚合物的制备方法和应用，尤其涉及蒸馏‑沉淀聚合制备单孔中空硼亲和分子印迹聚合物的方法，属于生物医药功能材料制备技术领域；本发明专利首先通过DPP利用4‑乙烯基苯硼酸单体引发聚合包覆在羧基封端的聚苯乙烯球模板表面；此外，在DPP的过程中，伴随的微相分离效应和壳材料的对称体积收缩诱导了聚合物壳中孔的产生，通过THF蚀刻带孔的聚合物壳即可获得单孔中空硼亲和印迹聚合物；然后将单孔中空硼亲和印迹聚合物密封在透析袋中用于选择性分离纯化LTL；本发明制备的单孔中空硼亲和印迹聚合物克服了现有常见分子印迹吸附剂对LTL吸附分离动力学低、饱和容量小和选择性差等问题。
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